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宁波云德半导体申请石英微孔表面抛光装置及方法专利 解决现有石英微孔抛光工艺不便于进行精密抛光:抛光
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金融界2025年8月9日消息,国家知识产权局信息显示,宁波云德半导体材料有限公司申请一项名为“一种石英微孔表面抛光装置及方法”的专利,公开号CN120439190A,申请日期为2025年05月抛光。
2025-08-23
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