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晶亦精微申请氮化镓抛光方法专利 极大地提高了氮化镓抛光时的抛光速率:抛光

金融界2025年6月14日消息,国家知识产权局信息显示,北京晶亦精微科技股份有限公司申请一项名为“一种氮化镓抛光的方法”的专利,公开号CN120134078A,申请日期为2025年04月抛光

专利摘要显示,本发明涉及抛光技术领域,具体公开一种氮化镓抛光的方法抛光 。本发明提供的氮化镓抛光的方法包括如下步骤:S1、使用第一抛光液和第一抛光垫对氮化镓进行抛光处理,得第一处理氮化镓;S2、使用第二抛光液和第二抛光垫对所述第一处理氮化镓进行抛光处理,得第二处理氮化镓;S3、使用第三抛光液和第三抛光垫对所述第二处理氮化镓进行抛光处理,得抛光处理后氮化镓。本发明利用上述三次抛光处理工艺依次对氮化镓进行粗抛、中抛和精抛,极大地提高了氮化镓抛光时的抛光速率,降低了氮化镓晶圆表面的粗糙度,使制备的氮化镓晶圆满足高端器件制造对氮化镓表面质量的极高要求。

天眼查资料显示,北京晶亦精微科技股份有限公司,成立于2019年,位于北京市,是一家以从事专用设备制造业为主的企业抛光 。企业注册资本16646.135万人民币。通过天眼查大数据分析,北京晶亦精微科技股份有限公司参与招投标项目51次,财产线索方面有商标信息15条,专利信息379条,此外企业还拥有行政许可8个。

来源:金融界

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